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工业气体 |
气体 |
纯度 |
杂质含量(PPM) |
执行标准 |
H2 |
99.99% |
O2+Ar≤5,N2≤60,CO≤5,CO2≤5,CH4≤10,H2O≤30 |
GB/T7445-1995 |
99.999% |
O2+Ar≤1,N2≤5,CO≤1,CO2≤1,CH4≤1,H2O≤3 |
GB/T7445-1995 |
99.9999% |
O2+Ar≤0.2,N2≤0.4,CO≤0.1,CO2≤0.1,CH4≤0.2,H2O≤1 |
GB/T7445-1995 |
N2 |
99.999% |
O2≤3,N2≤1,CO、CO2、CH4总含量≤3,H2O≤5 |
GB 8980-88 |
99.9993% |
O2≤2,N2≤1,CO、CO2、CH4总含量≤2,H2O≤2.6 |
GB 8980-88 |
99.9996% |
O2≤1,N2≤0.5,CO、CO2、CH4总含量≤1,H2O≤1.0 |
GB 8980-88 |
O2 |
99.995% |
Ar≤10,N2≤20,CO2≤1,总经含量≤2、水分、露点0C-69 |
GB/T 14599-93 |
99.998% |
Ar≤5,N2≤10,CO2≤1,总经含量≤1、水分、露点0C-70 |
GB/T 14599-93 |
99.999% |
Ar≤2,N2≤5,CO2≤0.5,总经含量≤0.5、水分、露点0C-72 |
GB/T 14599-93 |
CO |
99.99% |
N2≤250,H2O≤10,CO2≤20,O2≤150,H2≤5 |
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99.95% |
N2≤400,THC≤10,O2≤10,H2O≤20 |
光明院标准 |
99.9% |
N2≤200,THC≤50,H2O≤20,O2≤20,CO2≤100,H2≤500 |
XN/QB-206-86 |
CO2 |
99.995% |
N2≤30,THC≤5,H2O≤5,O2≤10,C2H5OH≤1 |
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99.99% |
O2≤10,N2≤40,H2O≤20 |
XN/QB 207.86 |
99.95% |
O2≤50,N2≤300,H2O≤50 |
XN/QB 207.86 |
SO2 |
99.98% |
残渣≤50,酸≤20,H2O≤50 |
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99.8% |
残渣≤300,酸≤300,H2O≤1000 |
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H2S |
99.99% |
Air≤50,CO2≤30,H2O≤10,THC≤10 |
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99.9% |
Air≤50,CO2≤30,H2O≤10,THC≤10 |
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NH3 |
99.8% |
O2≤2,N2≤5,CO2≤1,经(C1-C3)≤1,H2O≤5,总杂质含量≤10 |
GB/T 14601-93 |
HCL |
99.9% |
N2≤16,CO2≤10,H2O≤10,O2+Ar≤5,烃类含量≤5,H2≤10 |
GB/T 14602-93 |
NH3 |
99.8% |
残留物含量%≤0.2 |
工业级 |
HCL |
99.9% |
不含有机重组分,微水 |
化学级 |
SF6 |
99.9% |
air≤0.03,cf4≤0.04,h2o≤3,oil≤10,
酸度≤0.15,可水解氟化物≤0.3 |
≥GB12022-89 |
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